RC Cleaner -      

die ideale Feinstreinigungs-Anlage für Elektronik, Optik und Feinmechanik mit 

Anwendung:
Die Feinstreinigungs-Anlage RC-Cleaner steht für partikelfreie Reinigung und rückstandsfreie Trocknung von elektronischen Baugruppen, optischen Gläsern und Linsen, Metallteilen, Implantaten und Kunststoffteilen.

Basierend auf Baugruppengröße und Durchsatzleistung sind individuelle kundenbezogene Lösungen erforderlich.

              RC 250 A                                                      RC 350 M

Feinstreinigungsmittel 

Für die Reinigung empfindlicher Materialien wurden als Ersatz für FCKW, CKW oder ähnlichen Lösemitteln die 3M Novec Engineered Fluids (Hydrofluorether, genannt HFE) entwickelt. HFEs sind nicht brennbare Flüssigkeiten, die sich besonders für die Präzisionsreinigung mit fleckenfreier Trocknung eignen. HFEs eröffnen darüber hinaus neue Möglichkeiten der Präzisionsreinigung auf den Gebieten Elektronik, Mechanik und Optik.

Die Verwendung von HFEs ist gesetzlich zugelassen, soweit die Emissionen einen durchschnittlichen Massenstrom von 30 gr/Stunde nicht überschreiten. Die Feinstreinigungs-Anlagen RC Cleaner auf Basis des Co-Solvent / HFE-Prozesses reduzieren die Emissionen auf das gesetzlich vorgeschriebene Niveau von unter 30 gr/Stunde.  

  RC Cleaner 500




RC 470

Wir präsentieren:

Die derzeit größte HFE Reinigungsanlage im Bereich Elektronik in Deutschland

Ausstattung: 3-Bad Anlage mit Abblaseinrichtung zwischen Bad 1 und Bad 2 Automatische Transporteinheit im 2-Korbverfahren und Korbumsetzung Automatische Mediennachschärfung im vorgewählten Zyklus in Bad 2 Korboszillation in Bad 1 und Bad 2 Umschaltbarer Ultraschall in Bad 1,2 und 3 mit Leistungsregulierung Doppelfiltration pro Bad Medien Puffertanks und Medienvorrattanks Korb-Transponder zur autom.Erkennung des gewünschten Reinigungsprogrammes Korbzuführungs - und Abführungsband

Befüllmenge HFE 71 IPA: 380kg

Befüllmenge Topklean  : 400ltr

Anlagenlänge: 6,80m

Anlagenhöhe:  5,90m

Die Anlage arbeitet im Mehrschichtbetrieb.

RC470

Prinzip:
Die Reinigung der Produkte erfolgt in einer Tauchreinigungsanlage mittels

 
und einem Co- Solvent.

Durch eine ausgewogene Heiz- und Kühltechnologie, Ultraschall, und/oder Druckumflutung und komfortabler Steuerung wird eine ausgezeichnete Reinigungsqualität und hohe Prozesssicherheit erzielt. 

Eine kontinuierliche Destillation zur Wiederaufbereitung von  rundet den Prozess ab. Damit wird eine Feinstpartikelabreinigung in einem weiten Anwendungspektrum ermöglicht und macht den Einsatz dieser Anlage für eine Vielzahl von Anwendungsgebieten interessant.

Prinzipskizze

 Änderungen vorbehalten!